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冷氫化電加熱器,冷氫化反應器是干什么的

時間:2023-02-06來源:m.zh-corad.com

冷氫化電加熱器,冷氫化反應器是干什么的

工業級硅粉送至硅粉干燥器,干燥后排入硅粉中間倉。硅粉在硅粉中間倉中由氫氣帶入氫化反應器中。

 

提純后的四氯化硅經過加壓、預熱后送至四氯化硅汽化器,汽化后的四氯化硅氣體經過加熱器進一步加熱后送至氫化反應器中。

 

循環氫氣和補充的新鮮氫氣經各自的壓縮機加壓后混合,按與硅粉規定比例經過預熱器、加熱器加熱后送至氫化反應器中。

 

將來自還原尾氣干法分離的氯化氫氣體經壓縮機加壓和加熱器加熱后送至氫化反應器中(case1)。

 

在氫化反應器中,硅粉與四氯化硅、氫氣、氯化氫氣體在550℃左右、約3.0MPa壓力下進行氣固流化反應,生成含一定比例三氯氫硅的氯硅烷混合氣。其主要反應方程式如下:

 

Si +2SiCl4 + H2+HCl=3SiHCl3

 

或在沒有氯化氫氣體的情況下(case2),在氫化反應器內硅粉與四氯化硅與氫氣發生氣固流化反應,主要化學反應方程式如下:

 

Si +3SiCl4 +2H2=4SiHCl3

 

反應后的氯硅烷混合氣體經過急冷除塵系統,以除去反應氣體中夾帶的細微硅粉顆粒,同時使反應氣體得到了降溫。

 

除塵后的反應氣體經過冷凝器冷凝回收,冷凝液主要為氯硅烷的混合液,送入粗餾提純工序分離,而主要組份為氫氣的不凝氣體則經循環氫氣壓縮機循環使用。

 

(2)粗餾工序

 

來自冷氫化工序的氯硅烷混合液送入1級粗餾塔進行預分離。

 

1級粗餾塔頂排出含二氯二氫硅的不凝氣體被送往全廠的V9100-廢氣處理單元進行處理;塔頂餾出液為含有部分SiCl4的三氯氫硅冷凝液,送入全廠的V1200-精餾工序繼續精餾提純。

 

1級粗餾塔釜得到含高沸點雜質的粗四氯化硅,送入2級粗餾塔進行處理。2級粗餾塔的作用是將粗四氯化硅和高沸點雜質進行分離,塔頂排出的不凝氣體同樣送往V9100-廢氣處理單元進行處理;塔頂餾出液為粗四氯化硅冷凝液,送入冷氫化工序的冷氫化反應器繼續參與反應;

 

2級粗餾塔釜排出高沸點釜液,送入全廠V9100-殘液處理系統進行處理。

 

2.3 冷氫化單元建設規模及消耗定額

 

(1)建設規模

 

根據全廠總物料平衡,確定本項目二期工程冷氫化單元建設規模按兩種工況計:

 

Case1:年處理四氯化硅39498噸,年產粗三氯氫硅按43621噸。

 

Case2:年處理四氯化硅35177噸,年產粗三氯氫硅按36257噸。

 

冷氫化單元年操作時間7440小時計。



 
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